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真空感应区熔炉提纯炉
真空感应区熔炉提纯炉

一·真空感应区熔炉提纯炉设备用途:

1. 提纯金属、半导体、有机和无机的化学材料;

2. 区熔致匀(使一种欲掺入的杂质十分均匀地分布在整个单晶体中)

3. 焊接和测量液体中的扩散率等。

二·真空感应区熔炉提纯炉设备优点:

1·区熔加热炉采用往复区熔的方式,闭环温度控制,可靠的控制熔区的宽度问题;生长室的设计成功解决生长室的污染问题,

2·将加热及保温材料均设置在生长腔室外部,采用高纯石英作为腔室,同时抽真空;将流动高纯氢气通入腔室,去除腔室中的微量氧,解决氧化的问题;

3·开发高柔性的控制软件,采用触摸屏进行操作,任意设置区熔的温度,区熔的速度及次数。

三·主要技术参数

1.加热温度:     1100℃ 使用温度:500-1000℃

2.设备功率:          25Kw±10%  三相380v 50Hz(三相五线制)

3.感应电源功率:      15Kw±10%  三相380v 50Hz(三相五线制)
4.冷态极限真空度:   ≤6.7×10-4Pa

5·石墨舟尺寸:     Ф70*200mm(内径*长度,半圆柱)

6·石英管(腔室)尺寸:¢100*1200(根据实际情况做调整)

7·加热方式:        高频感应加热

9·区熔行程及速度:  位移行程 ≦1000mm

慢速:1-10mm/h(伺服控制)精度0.01mm

快速:50-200mm/min(伺服控制)可根据客户需求设计

10.炉内充气压力:    ≤0.03MPa(氩气)

11·充气系统:      自动充放气

12.区熔温区:       1温区

13.石英管法兰连接方式:真空水冷密封法兰形式,留KF25真空接口,法兰材质304不锈钢

14.控制方式:触摸屏+plc


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